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    UV光催化氧化设备

        UV光催化氧化设备反应原理(1)UV光激发臭氧(O3)高级氧化技术是一种利用紫外光直接活化O3产生羟基自由基(·OH)的氧化过程,无需额外催化剂。其核心是通过光化学作用高效裂解O3生成H2O2。在紫外光照射下,H2O2分子吸收光子能量,均裂生成两个·OH自由基:03+hv+H0->H202+02,H2O2+hv->2·OH(2)&n

    发布时间:2026-09-02
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    信息详情

    UV光催化氧化设备

    反应原理

    (1) UV光激发臭氧(O3)高级氧化技术是一种利用紫外光直接活化O3产生羟基自由基(·OH)的氧化过程,无需额外催化剂。其核心是通过光化学作用高效裂解O3生成H2O2。在紫外光照射下,H2O2分子吸收光子能量,均裂生成两个·OH自由基:03+hv+H0->H202+02   H2O2+hv->2·OH

    (2) 臭氧是一种强氧化剂(氧化电位2.07V),直接氧化臭氧分子直接攻击有机物(特别是含双键、芳香环的化合物)O3+有机物一中间产物一CO2+H2O2选择性氧化,对烯烃、酚类、染料等高效,但对饱和烃效果较差。

    设备描述

    通过UV光催化臭氧并在H2O2的协同作用下高效产生强氧化性·OH羟基自由基,从而实现难降解有机污染物断链、开环,形成小分子有机物,并最终矿化为CO2H2O。

    工艺结合了H2O2O3高吸光系数(入=254nm,8=3300M-1cm-1)、H2O2高溶解性以及O3·HO过氧化羟基自由基高反应速率(O3H2O2的反应速率一般<0.01Ms,而O3与·HO2反应速率高达5.5X106M's),多通路、高效率产生具有强氧化性·OH羟基自由基。

    整个工艺包含03/H2O2催化氧化、03/UV激发氧化和H2O2/UV激发氧化三个产生羟基自由基的反应过程,三个过程相辅相成。

    技术优势

    较传统H202O3为基础的高级氧化,冠宇高级氧化技术O3H2O2利用率高达95%以上;

    拥有独立知识产权与中国科学研究院共同研发的纳米TiO2催化剂涂层,由于其特殊结构和材料,烧结成型的催化剂板相较传统催化剂板效率更高;

    解决单一氧化剂无法实现的去除有机污染物的问题,达到超低排放要求;

    充分利用臭氧的强氧化特性,结合紫外光的光催化效应,提高羟基自由基与水体污染物混合反应的效率;

    解决目前常规的高级氧化处理工艺无法保证稳定处理效果的问题。

    应用行业

    垃圾渗滤液深度处理、化学合成药的预处理、生物制药污水深度氧化高盐化工废水处理、农药废水深度处理、膜处理工艺的浓水深度处理、市政污水投标改造、园区污水提标改造、综合废水深度处理、养殖污水深度处理、食品加工废水处理

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